二手 ULTRATECH AP 300 #293631544 待售

  • 圖為 已使用的 ULTRATECH AP 300 待售
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晶圓步進機
製造商
ULTRATECH
模型
AP 300
ID: 293631544
Stepper Environmental chamber Extended field target: 2 µm GHI-Line auto filter changer Broadband lens Dual lamp illuminator, 1200 W FOSB Cassette to cassette handler FOUP Wafer handler Test reticle: 6x6 Wafer thickness: 0.4 mm to 2 mm PatMax MVS Alignment spectrum: 530 nm - 570 nm 6-Slots reticle stack Front loading: Manual Enhanced bottom pellicle protection Edge exclusion with exclusion ring size, 15 mm Closed loop cooling Prism purge kit Power supply: 208 V, 150 A, 3-Phase, 5-wire.
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ULTRATECH AP 300是為大體積光刻應用而設計的步進重復晶圓步進器。該設備通過精確的投影對準和將圖樣從光掩模傳輸到晶片，設計為提供可靠準確的垂直視場（FOV）晶片步進器生產。其分辨率為0.25 μ m,最小特征尺寸為0.17 μ m,焦點變化為0.008 μ m。ULTRATECH AP300的最先進的工程技術為它提供了業界領先的速度，精細對齊晶片的往返速度高達0.35秒，非精細對齊晶片的速度高達0.9秒。此外，每小時生產10,000個晶圓的能力使它成為一種時間和成本效益高的機械。晶圓步進器由高度精密和精確的電動X-Y級驅動。機動化級具有亞納米分辨率和0.2 μ m的定位精度。這種強大的電動機將有助於確保設備的高速運動保持在定義的精度範圍內。這將有助於提高晶圓步進器應用程序的吞吐量。AP 300包括耐用緊湊的外殼設計，配有高清12.7英寸700 TVLine彩色顯示器和3D觀看系統。觀賞系統非常適合監測和檢查光刻過程而不會造成任何中斷。此外,檢視系統還與精密光學器件集成在一起,使其能夠以2 μ m的精度和860-1200 μ m的視場檢查晶片。為了優化晶片步進器的使用，AP300采用了用戶友好的軟件，用戶可以對各種操作進行編程。該軟件還與制造工程語言（MEL）兼容，允許用戶以高效的方式控制操作。ULTRATECH AP 300由於其剛度、精度和工作速率，是一種高效可靠的晶圓步進器。它在半導體、平板顯示器等相關行業中有應用，以提高一致性和生產率生產光掩模傳輸。
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