二手 ULTRATECH AP 300 #9236556 待售
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已售出
ID: 9236556
晶圓大小: 12"
優質的: 2008
Stepper, 12"
Operating system: Windows
Intensity: 2500 (mw/cm²)
Wave length: D, H, I Line
DOF: 5 um
Resolution: 200 nm
Field size: 44 x 26 mm
Lamp uniformity: 3.07%
Type: SMIF
Automation line component: GEM
Reticle size, 6"
Wafer of type
Illumination: Standard
Main shutter: Standard
Booth unit
Reticle changer
Reticle cassette
No reticle cassette bar-code
Reticle bar-code reader
TAG Reader
No pellice particle check
Intensity meter holder / Display
High precision N rotation PA parts
CDA Filter: Organ In-organ
Signal tower
No double cassette elevator
No HeNe unit modification unit
Remote E-console: Single
Recipe server
Stage:
Scan speed: 250 mm/sec
Chuck: Ring chuck
Electric power: 208 V / 60 Hz
2008 vintage.
ULTRATECH AP 300是一種晶圓步進器，為半導體制造過程的自動化提供了最高的性能和精度。它是一個多軸自動化設備，具有精密的晶圓處理，高度精確的計量和先進的光學。ULTRATECH AP300得名於其先進的精密技術--「Advanced Precision」或「AP」。AP 300采用精密、多軸定位系統，精度<1000納米，確保在必要時能夠以不同方式精確處理設備。憑借其驚人的精確度,它可以在給定的設備上有效地描述邊緣紋理,從而實現所需的最終產品。AP300還具有先進的光學元件，可達到10微米的分辨率，峰值波長與可見光譜一樣短。ULTRATECH AP 300具有先進的光學性能,能夠以前所未有的精度測量缺陷.從衍射光柵的臨界直徑和深度測量到傾斜目標的高精度，ULTRATECH AP300允許對器件表面進行優越的檢查。此外,AP 300還具有先進的晶圓處理單元,可以快速處理。針對器件的復雜性和輸入/輸出條件，AP300晶片處理機優化了各種尺寸晶片的吞吐量。總體而言,ULTRATECH AP 300是一種復雜的多軸晶圓步進器,可提供最高的性能和準確性,使半導體制造過程自動化。它具有分辨率高達10微米的先進光學器件，以及<1000納米精度的高精度多軸定位工具。ULTRATECH AP300還提供了一種先進的晶圓處理資產,可實現高效的吞吐量。AP 300具有很高的可靠性和經濟效益,為質量改進、吞吐量優化和半導體器件制造提供了強大的自動化解決方案。
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