二手 ULTRATECH Star 100 #9252513 待售

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ID: 9252513
Stepper Illumination field size: 39 x 18 mm Light pipe type: Diffuser Field size: 30 x 18 mm MVS Type: Patmax Series 2 bridge Flipper less Reticle size: 3" x 5" PC With windows 2000 Platform Air probe type: Round Edge switch: Air probe Theta stage: Pop-up Wafer handler: Round chuck, 4" Autoloader, 4" Options: Chuck and autoloader, 5" and 6" Upgraded to automation robot system 2006 vintage.
ULTRATECH Star 100晶圓步進器是一種先進的光刻工具,用於在半導體晶圓上對大小結構進行制圖。它是一種頂級步進器,能夠產生高分辨率、高精度的圖像,同時在整個晶片上保持高度精確的聚焦和對準。ULTRATECH STAR100采用了一種稱為KrF浸沒光刻的高級光學照明模式。該技術采用深層紫外線光源和晶圓與照明區域之間的化學反應,由於KrF光源的聚焦深度較大,斑點尺寸小,導致高分辨率。Star 100的最先進的雙軸投影光學元件允許在具有嚴格公差要求的成像特性時進行極微調。此外,投影光學器件提供高數值孔徑,連同成像設備的亞微米分辨率,確保投影的光刻圖案質量最高。STAR100的超精確階段進一步提高了成像能力。此階段結合了高分辨率運動控制系統和微調索引驅動器,以實現一流的對齊精度。該級同時具有x軸和y軸控制,達到0.5微米的定位精度。對於基板控制,ULTRATECH Star 100采用微晶金剛石卡盤單元。這臺機器消除了邊緣效應,並確保了晶片之間的溫度分布均勻,以實現最佳的模式傳遞。ULTRATECH STAR 100的源/曝光控制功能可實現卓越的可重復性和可靠性。它有一系列可調節的Tool 6參數,從激光功率到快門速度,允許復雜的微調曝光過程。最後,Star 100配備了復雜的故障檢測和校正資產,可以在制造過程中出現錯誤之前檢測潛在問題。此模型連續掃描晶片並監視參數是否存在差異,如果存在差異,則可以激活報警或自動調整工藝參數。
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