二手 ULTRATECH Unity AP200 #9280624 待售
網址複製成功!
ULTRATECH Unity AP200 Wafer Stepper是一種先進的步進重復光刻設備,設計用於半導體制造。它能夠在200毫米晶片上一次曝光圖樣圖像。Unity AP 200的光刻光學為更詳細的影像提供NA=0.6的高數值孔徑(NA)。該系統配備了3.3Mega像素數碼成像相機,提供30毫米x 40毫米的視野。相機利用低噪聲成像傳感器提供14位深度分辨率的動態圖像範圍。這樣可以更準確地復制晶圓上的圖像。ULTRATECH UNITY AP 200的機電元件設計精密可靠。這是由設備的下列特性所實現的:用於晶片精確對準和定位的6軸運動機床、用於高達5弧秒的旋轉配準精度的高精度旋轉級,以及高達2500 mm/s的高線性速度。Unity AP 200的算法能夠高精度地暴露復雜的模式。它們包括用於非線性掃描陣列的高閾值支持陣列和後端陣列,以實現不同的陣列類型和最小程序大小。ULTRATECH Unity AP200還包括一臺用於自動對焦控制的外部激光幹涉儀、一臺用於保護光學元件的集成粒子監控器以及一個用於降低對資產性能的熱影響的冷卻工具。此外,該模型還具有用戶友好的圖形用戶界面(GUI)、開放式體系結構和軟件開發工具包(SDK),旨在方便操作。這些功能確保用戶可以輕松地為各種應用程序編程和處理映像。總體而言,Unity AP200 Wafer Stepper是一種先進、可靠的光刻設備,能夠對200 mm晶圓上的圖樣進行精確的成像。其用戶友好的界面、高精度的機械元件和健壯的算法使半導體應用能夠產生高質量的圖像。
還沒有評論