二手 ULTRATECH Unity AP300 #9128099 待售

ID: 9128099
晶圓大小: 12"
優質的: 2009
Stepper, 12" Resolution: 2 um Line / Space Field size: 34 x 26 mm Wave length: Ghi-line Illumination: Strength of exposure: 2,063 mW / cm² (Ghi-line) Exposure accuracy: Shutter accuracy: 0.28% (250 mJ) 0.68% (2500 mJ) Illuminator condition: 3.22% SSF Focus Lens resolution: 2.0 um L/S DOF Lens: ±7.5 um Image plane inclination: Wafer chuck flatness: X: -0.0179 um/mm Y: 0.0804 um/mm Alignment accuracy: Overlay accuracy: X: 0.909 um Y: 3.179 um (3-Sigma) Wafer place position accuracy: X: 98.343 um Y: 83.691 um (3-Sigma) Reticle position test: X: 0.480 um Y: 0.624 um (Sigma) TCL Test Benchmark: 115.1 + 22 um (L: 0 um, B: -7.0 um, R: 0.8 um) Data back up: Critical backup 2009 vintage.
ULTRATECH Unity AP300晶片步進器是用於生產半導體晶片的最先進的精密光刻設備。步進器具有先進的光學和多劑量能力,能夠同時成像多達三個晶片。該系統旨在為暴露和未暴露的晶圓表面提供高質量的成像。該AP300配備了Opti-Scan Robotics單元,可提供機器內晶片的精確且可重復的對準和移動。機器還能夠在兩個攝像頭之間切換,允許用戶同時執行上下表面成像。晶片步進器由高精度、多軸級供電,提供空氣懸浮和晶片與環境隔離,以及最佳運動控制。該工具還具有高端電機,具有精確和可重復的速度控制,確保晶片在光刻過程中的精確運動和位置。AP300晶片步進器利用專有的劑量控制和暴露資產,在劑量傳遞和模式寫入速度方面提供無與倫比的穩定性和精確度。該模型還提供了使用校準均勻面罩的高級光學校正,從而提高了圖像質量和更精確的光刻。該AP300還利用先進的多層工藝(MLP)設備來監控晶圓在步驟和重復過程中的進度。這有助於最大限度地減少誤配,並確保正確的劑量應用於整個晶片上的每個模具。最後,該AP300具有強大的安全功能,旨在確保始終安全運行。步進器配有機櫃存儲模塊,可確保系統不受外部振動、灰塵和電動勢的影響。安全功能還包括緊急停止按鈕,以保護用戶免受傷害。
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