二手 ULTRATECH Unity AP300 #9128099 待售
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單擊可縮放
ID: 9128099
晶圓大小: 12"
優質的: 2009
Stepper, 12"
Resolution: 2 um Line / Space
Field size: 34 x 26 mm
Wave length: Ghi-line
Illumination:
Strength of exposure: 2,063 mW / cm² (Ghi-line)
Exposure accuracy:
Shutter accuracy:
0.28% (250 mJ)
0.68% (2500 mJ)
Illuminator condition: 3.22%
SSF Focus
Lens resolution: 2.0 um L/S
DOF Lens: ±7.5 um
Image plane inclination:
Wafer chuck flatness:
X: -0.0179 um/mm
Y: 0.0804 um/mm
Alignment accuracy:
Overlay accuracy:
X: 0.909 um
Y: 3.179 um (3-Sigma)
Wafer place position accuracy:
X: 98.343 um
Y: 83.691 um (3-Sigma)
Reticle position test:
X: 0.480 um
Y: 0.624 um (Sigma)
TCL Test
Benchmark: 115.1 + 22 um (L: 0 um, B: -7.0 um, R: 0.8 um)
Data back up: Critical backup
2009 vintage.
ULTRATECH Unity AP300晶片步進器是用於生產半導體晶片的最先進的精密光刻設備。步進器具有先進的光學和多劑量能力，能夠同時成像多達三個晶片。該系統旨在為暴露和未暴露的晶圓表面提供高質量的成像。該AP300配備了Opti-Scan Robotics單元，可提供機器內晶片的精確且可重復的對準和移動。機器還能夠在兩個攝像頭之間切換，允許用戶同時執行上下表面成像。晶片步進器由高精度、多軸級供電，提供空氣懸浮和晶片與環境隔離，以及最佳運動控制。該工具還具有高端電機，具有精確和可重復的速度控制，確保晶片在光刻過程中的精確運動和位置。AP300晶片步進器利用專有的劑量控制和暴露資產,在劑量傳遞和模式寫入速度方面提供無與倫比的穩定性和精確度。該模型還提供了使用校準均勻面罩的高級光學校正，從而提高了圖像質量和更精確的光刻。該AP300還利用先進的多層工藝（MLP）設備來監控晶圓在步驟和重復過程中的進度。這有助於最大限度地減少誤配，並確保正確的劑量應用於整個晶片上的每個模具。最後,該AP300具有強大的安全功能,旨在確保始終安全運行。步進器配有機櫃存儲模塊,可確保系統不受外部振動、灰塵和電動勢的影響。安全功能還包括緊急停止按鈕，以保護用戶免受傷害。
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