二手 EBARA CADS HVM #9112898 待售

EBARA CADS HVM是EBARA開發的光刻設備，可實現快速、精確的光刻工藝。該系統能夠在微電子器件上創建高精度的金屬線和其他圖樣。該單元采用電子掃描機，配有先進的激光光學器件，廣泛的光阻化學物質，以及高性能的掩模對準工具。CADS HVM資產包括一個高精度激光源，照亮敏感的抗蝕膜。然後根據需要打印的圖樣對激光束進行調制，然後將光束定向到抗蝕層上。然後使用先進的光學模型將光束直接投射到抗蝕層上以進行高分辨率圖樣繪制。EBARA CADS HVM還使用高精度的掩模對準設備，將圖樣精確定位和圖樣傳遞到抗蝕層。該系統能夠打印尺寸小至0.05 um、間距高達180 um的圖樣。該單元還提供了集成的梁輪廓控制,以便能夠精確地再現復雜的圖樣。CADS HVM機還具有一系列光阻化學物質,可用於各種應用。該工具對波長、溫度和光阻化學物質的精確控制，提供了良好的抗蝕劑與基板的粘合，並確保了高度精確的圖案。為了確保精確的陣列,EBARA CAD HVM還配備了集成的軟件和硬件診斷系統。它們可以檢測資產中的錯誤,如低功耗激光源、掩模對準器中的偏差以及光阻化學物質中的任何錯誤。總之，CADS HVM模型是一種先進的光刻設備，它提供了高分辨率的快速、精確、精確的微電子器件陣列。其集成的掩模對準系統、光阻範圍以及先進的激光源，在多種應用中提供卓越的性能。綜合診斷系統也提供了極好的準確性和質量保證。