二手 EBARA UFP 200 / 300A #9132640 待售

EBARA UFP 200和300A Photoresists是為確保半導體制造過程中的高分辨率圖樣和可用性而開發的先進光電抗蝕劑。這兩個系統為用戶提供晶圓任何一層的高分辨率陣列,並具有高速操作功能。EBARA UFP 200/ 300A使用激光束投影技術記錄所需的圖樣，以便暴露在光刻層上。設備的核心是其X-Y掃描和投影光學器件，它允許以最小0.25微米的間距進行大規模的圖樣繪制。這一特性允許高分辨率原子力顯微鏡成像應用以更高的精度進行。該系統還包括一些附加功能，如自動晶圓輸送機和自動對準裝置，可實現自動制圖。這樣可以確保模式從控制計算機準確、一致地傳輸到抗蝕層。為了獲得最佳保護，該機還具有各種光學過濾系統，有助於保護光刻膠免受激光源的侵蝕，從而在高速工藝下產生更高的通量和更少的浪費。阻尼工具還有助於減少疲勞，並在記錄暴露時提供額外的保護。EBARA UFP光電抗蝕劑系統與各種抗蝕劑塗層兼容,包括正負光電抗蝕劑和先進的多層金屬硬體防蝕劑,可提供生產靈活性和成本節約。這些系統還與KrF和ArF激光源兼容，確保它們能夠提供廣泛的陣列深度和曝光。最後,它的過程控制軟件旨在為用戶提供一系列復雜的工具,以幫助監控過程並確保每次結果一致。這包括一整套分析和控制工具,例如實時晶圓分析和直方圖控制,以及一個帶有推薦參數的食譜和食譜的可擴展庫,幫助用戶優化流程。