二手 EBARA UFP 200A #9192490 待售
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EBARA UFP 200A是為在半導體晶片上沈積光刻膠而設計的全自動光刻膠設備。它能夠在整個晶片表面沈積和旋轉光致抗蝕劑，無需人工幹預。該系統使用自旋化學前體在晶圓上沈積一層均勻的光致抗蝕劑。UFP 200A單元具有一個串聯工藝室，旨在促進整個晶圓表面的均勻塗層。其晶圓加熱機在抗蝕層的精度上允許更高的精度。該工具還包括一個集成的自旋速度和時間監視器，以確保抗蝕層在整個晶圓表面上的均勻分布。EBARA UFP 200A資產還帶有一個集成的曝光後烘烤模塊,該模塊可提供高達200 °C的烘烤後溫度,整個晶圓的溫度分布均勻。此外，該模型還帶有原子力顯微鏡，可以精確測量暴露後的抗蝕性厚度和表面粗糙度。UFP 200A設備還具有高精度的閉環步進系統,可在曝光過程中對準晶圓。這樣可以確保在垂直和水平方向上精確對準曝光。此外,設備還具有安全互鎖功能,可防止機器啟動該過程,直到整個晶片正確對齊為止。這樣可以確保準確、高效地執行該過程。最後，設計了EBARA UFP 200A工具，提供了一種簡便高效的光刻工藝探索方法。該資產能夠快速準確地執行過程的沈積和紡絲步驟，從而在探索新的光刻膠配方時縮短周轉時間。
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