二手 EBARA UFP 200A #9198040 待售

EBARA UFP 200A是為滿足光掩模生產的高端要求而設計的最先進的光刻加工設備。它能夠產生高分辨率特征和小於4.5 μ m的線寬。該系統利用波長為405 nm的激光光源在所需基材上的光敏層上產生圖像。光刻膠是先進光刻工藝中最重要的部件之一，應用於半導體制造的圖樣基板上。UFP 200A采用了先進的光束掃描技術，如掃描和線路編碼以及圖像元素，從而實現了模式的自動化和高精度再現。該設備還配備了Industry 4.0功能,即使工廠車間以外的環境條件波動,也能保持生產條件的穩定。EBARA UFP 200A還提供卓越的圖像質量和高對準精度以及精確的特征和線寬控制。UFP 200A具有可調節的聚焦距離,可以使用各種基板,同時保持相同的精度和分辨率。EBARA UFP 200A可實現多層曝光,它具有內置運動軸,可使基板在光刻膠薄膜層之間平穩移動,而無需外部定位。此外，機器由於其恒定的激光功率輸出而具有很高的線性度，在整個曝光場中保持一致的分辨率。為了安全起見，UFP 200A還配備了有毒蒸氣凈化工具。此資產可過濾出有害氣體,以確保用戶在操作機器時保持清潔環境。EBARA UFP 200A還具有一種快速起動的氣閘模型,可確保基於精度的操作,並具有最小的噪聲和幾乎沒有振動,使機器甚至符合最嚴格的標準。總之,UFP 200A是一種為先進的光刻工藝而設計的可靠可靠的機器.其自動化和先進的運動掃描能力,以及高對準精度和圖像質量,使其成為制作光掩模的理想選擇。此外，其有毒的蒸氣凈化設備和空氣制動系統提供了更多的靈活性和安全性。EBARA UFP 200A是那些尋求可靠和高端光刻加工的人的絕佳選擇。