二手 EBARA UFP 300A #9132639 待售

EBARA UFP 300A是一種高性能光刻設備，設計用於處理標稱分辨率為0.5-2.0微米的單曝光和雙對比度半導體晶片。該系統包括一個緊湊的固定式鋁抗蝕劑塗層單元，能夠控制抗蝕劑的速度、體積和混合比，以幫助優化晶片塗層。塗層裝置利用EBARA專利噴嘴技術，提供精確、可重復的理化塗層性能。該單元還包括一個先進的、自給自足的後工藝開發模塊，內建有光刻膠油墨分發器和後工藝、空氣清潔站。該模塊可以處理尺寸可達300 mm的晶片,並提供精確、可重復的開發、蝕刻和剝離過程,且對晶片清潔度的影響最小。清潔站采用氮氣噴塗，保證了高質量的無通量工藝。該機具有優異的分辨率和高質量的表面成像，並提供了在晶圓水平控制光刻膜厚度相對和絕對差異的可能性。該工具支持批處理和連續處理，並具有開放的電氣模塊結構，其靈活性足以納入其他過程。此外,EBARA UFP-300A還包括一個用於連接到主機資產的內置接口,允許對模型進行全面的在線監視和控制。該設備具有直觀的圖形用戶界面（GUI）和堅固的設計以及低備用功耗,可實現用戶友好的操作。UFP 300A還具有200 GB的內存容量,即使是來自多個供應商的要求最苛刻的軟件應用程序也是如此。綜上所述，UFP-300A是一種設計用於半導體晶片加工的高度可靠和用戶友好的光刻系統。它能夠產生具有單一曝光和雙對比度的高質量圖像,並提供定制的用戶友好的GUI,以便對設備進行完整的在線監控。該機是現代半導體加工業的經濟高效解決方案。