二手 EBARA UFP 300A #9185406 待售

EBARA UFP 300A是一種光刻設備，旨在為先進的半導體應用開發高通量工藝。EBARA UFP-300A為矽片制造提供先進的工藝能力,如蝕刻速率控制、光刻平面化和光刻修復。該系統包括三個組件：光刻劑噴霧器、掩模對準器和相關平臺。裝置中的光敏噴霧器設計用於控制抗蝕性塗層的厚度、均勻性和可靠性。蒙版對齊器用於對齊蒙版、應用圖樣以及與矽片接觸。平臺提供噴霧器和掩模對齊器之間的接口。這個平臺包括一個帶有變速機器人手臂的晶圓處理單元、視覺轉向機以及控制機器人運動的線性定位器。平臺由用戶友好的圖形用戶界面控制，使操作員更容易使用該工具。UFP 300A配備了一個數字資產控制單元，控制模型的各種功能。這個控制單元能夠計算設備的操作條件，以及調整機器人手臂的速度。它還使操作員能夠檢查系統中每個設備的狀態。此外,控制單元還能夠顯示有關單元性能的數據,如晶片上光刻膠的粘附率、光刻膠的蝕刻率以及機器的整體吞吐量。UFP-300A提供了廣泛的功能，旨在提高半導體制造工藝的產量。它配備了高速自動對齊器，以更快的基板操控和提高可靠性。該工具還包括一個碎片清除資產和一個自動光刻剝離裝置，以減少停機時間。此外，該模型的高精度模式傳輸設備的設計，以確保準確的結果。EBARA UFP 300A由於其可擴展性和靈活性,也非常適合大批量生產運行。該系統可以定制以滿足客戶的需求,包括定制的組件、附件和選項。該單元可以很容易地適應不同的應用，從而能夠同時生產單層和多層設計。EBARA UFP-300A還配備了用於監視和優化過程的高級跟蹤機器。總體而言，UFP 300A是一種創新的光阻工具，具有廣泛的功能，旨在最大限度地提高半導體制造工藝的效率和產量。該資產旨在滿足先進半導體應用的需求，提供高吞吐量的過程和可靠的結果。