二手 PURE AIRE UF72AE #9303096 待售

PURE AIRE UF72AE光刻設備是一種先進的、經濟高效的解決方案，用於控制材料的沈積和確保模式轉移的可重復性。在光刻過程中，使用UV Exposure of resists是為了在半導體晶片內定義蝕刻窗和創建電路模式。UF72AE是一個多功能的光刻系統，提供了顯著的精度和靈活性。PURE AIRE UF72AE能夠處理高達200 mm的晶片,只需一次曝光,且失真最小。這要歸功於兩個光束點的間隔和實時調整以達到最佳聚焦。此外，UF72AE還設計了先進的照明裝置，以確保紫外線的均勻分布和最大的節能。這有助於降低暴露過程之前的成本,並始終提供高質量的結果。為了保持其準確性，PURE AIRE UF72AE采用了最新的數字控制技術進行可重復設置。UF72AE的微精度光學元件保證了機器在不同晶圓尺寸上保持聚焦精度。通過多個濾波器進一步增強了這一點，從而確保無論基材厚度變化如何，模式轉移都保持可重現。此外,PURE AIRE UF72AE與所有標準光刻材料兼容.這使得它可以快速設置用於各種類型的作業並容納任何類型的基板。此外,它的專利自動統一曝光工具允許完成多個作業,而無需任何手動調整。這一切都要歸功於它內置的傳感器，這些傳感器不斷調整曝光參數以獲得最佳吞吐量。總之，UF72AE是一種先進的、具有成本效益的光致抗蝕劑資產。它能夠在多種基材尺寸上精確蝕刻圖樣並保持最佳聚焦，因此是任何光致抗蝕劑工藝的理想解決方案。其數字化控制技術、靈活兼容性和自動均勻曝光模型確保了模式傳輸的可重復性和準確性。這確保了PURE AIRE UF72AE將仍然是所有光刻膠應用的可靠且經濟的選擇。