二手 OWENS DESIGN Gen 2 #9234063 待售

OWENS DESIGN GEN 2是一款數字光刻設備，專為改造半導體制造市場上的傳統掩蔽工藝而設計。該系統是現有最先進的光刻工藝之一，基於多層光刻技術，能夠對光掩碼進行晶圓級控制。它非常適合在非常小或復雜的電路特性上創建分辨率低於10納米的精確模式。光致抗蝕劑單元依賴於復合感光材料在特定表面上的光修飾的光學效應。這種感光材料是一層化學物質，包括光敏劑和顯影劑。當暴露於特定波長的光時，光敏劑發生變化，而顯影劑保持不變。在晶片上放置一個帶有激光切割圖案的精確掩模，並使用特定波長的曝光來曝光感光材料。曝光後，晶片用顯影劑處理，該顯影劑改變暴露的感光材料，形成精確的圖樣。第二代光刻機具有很高的可靠性和可預測性，適用於各種光刻工藝。它提供了多種可定制的功能,包括全掩碼庫、簡單的操作員編程、多位置掩碼表、晶圓托盤可索引自動階段、可編程曝光時間控制以及可訪問的掩碼配方庫。OWENS DESIGN GEN 2還具有一個自動激光切片設施，可以用來將多個晶片分離成較小的碎片，以便進一步處理。此外,作為其最先進的診斷功能的一部分,該工具具有自動對齊資產和自適應焦點控制功能,以確保準確性和可重復的過程結果。總之，Gen 2光刻膠模型是可靠、精確、晶圓級光刻應用的有力工具。它為提高產量和生產時間提供了精確的模式，並通過其可編程特性顯著降低了每晶圓的成本。