二手 EVG / EV GROUP 620 #9402233 待售
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ID: 9402233
優質的: 2004
Mask aligner
Plug type:
US 5 Nema L 21-30 Plug, Wire length 1.8m
Europe: CEE7 European plug
Japan US 5 NEMA L‐ 21-30 plug, wire length 1.8m
Tube slzes:
Compressed airi nitrogen and vacuum
Compressed air: 6 Barr (87 Psi). dried and filtered
701/h FIow rate
Nitrogen / Compressed air (Dried, cleaned):
501/h Flow rate
Vacuum: 850 mbar (640 Torr)
Power recuirements 400W
Voitage:
Japan system: 200 V, 50/60 Hz, Single phases, 3 Wire system
US System: 208 V, 50/60 Hz, Single phase, 3 Wire svstem
European system 230 V, 50/60 Hz, Single phase, 3 Wire system
2004 vintage.
EVG/EV GROUP 620是一種全自動掩模對準設備，設計用於處理半導體器件晶圓的制造。它利用各種行業標準基材和接觸源來提供反應迅速的對齊結果。該系統能夠實現0.1微米的分辨率，可重復性在1微米以內。EVG 620的高精度光學、機動化晶片級、集成軟件使設置和控制曝光過程直截了當、高效。對齊器的曝光源效率很高，使得設備能夠快速準確地運行各種作業。對齊器的用戶友好軟件有助於簡化作業設置方法,並允許用戶監視每個作業的進度。該單元由幾個集成組件組成，包括一臺計算機控制的蒙版曝光機、一個電動晶片級、一個先進的電機驅動工具和一個曝光燈。曝光燈用於產生短波長曝光光，確保最大分辨率和重復性。機動化晶片級用於精確控制晶片的運動和曝光位置。最後，集成的提前電機驅動資產允許用戶控制曝光過程的速度和方向。EV GROUP 620旨在滿足半導體制造商的需求，為他們提供一個高效、經濟高效的面罩對準/曝光任務工具。該模型的直觀軟件還確保了易用性和高效的作業設置,使操作員能夠監控過程並保持高精度和精確度。對齊器的堅固結構和自動化操作使其成為那些尋找可靠、快節奏曝光設備的人的理想解決方案。
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