二手 AMAT / APPLIED MATERIALS CENTURA #9183325 待售
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已售出
ID: 9183325
晶圓大小: 8"
優質的: 2000
HDP-CVD System, 8"
Software version: B3.7_34
CIM: Linked
Hardware configuration:
Main system:
(1) Centura 5200
SMIF System: (2) Asyst SMIF Interfaces
Handler system: (1) HP ROBOT
Process chmber: (3) FHDP Chamber ultima
Hardware configuration (Subfab / Auxiliary units)
(1) SMC Heat exchanger
(3) ETO Generators
(2) CDO
(3) EBARA Pumps AAS70WN
Buffer / Loadlock EBARA Pump: (2) EBARA Pumps AA20N
Missing / Faulty parts / Accessories list
(1) RPS (AT APP pending to repair)
(1) Side match (At fab 35)
2000 vintage.
AMAT/APPLIED MATERIALS CENTURA Reactor是一種高度通用的矽加工設備,用於制造半導體。它的靈活性使得它成為各種項目的有用工具,從小規模原型設計到高產量運行。AMAT CENTURA Reactor是一種在熱處理室中處理矽基板的單步高真空反應器。這種獨特的專利設計提供了一種高度均勻、低介電常數的塗層。該腔室配有石英波紋管密封、低壓泵送系統,配有快速循環閥和計算機控制流量的氣體輸送系統。該反應堆旨在減少成本高昂的工藝步驟,同時滿足行業對薄膜均勻性、可靠性和產量的要求。該反應器主要用於沈積矽化鎢、矽化鈦、矽化鈷和其他矽化物材料。它有一個單室,高15英寸,寬2英尺,深4英尺。該腔室配有兩個獨立的電子微處理器控制器,幾個溫度和氣流傳感系統,以及一個腔室視圖端口。溫度可設定為50-1000⁰C,最高處理溫度為850⁰C。反應堆有可互換的晶圓載體,容納直徑3至8英寸的晶圓尺寸。載波為每個晶片提供精確的水平和垂直位置。轉動載流子提供的離心力產生表面電荷,確保得到的薄膜具有一致的均勻性和厚度。應用材料CENTURA反應堆是許多半導體工藝的寶貴工具。隨著可調節參數的多功能性,包括溫度、氣流、壓力和反應時間,這種反應堆可以提高效率,同時降低制造過程中的成本和時間。其精確的包絡設計、穩健的電子設備以及精確的氣體和溫度控制,確保了工藝結果的一致性和精確度。
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