二手 AMAT / APPLIED MATERIALS WxZ Chamber CVD Centura for P5000 #293648481 待售

ID: 293648481
晶圓大小: 8"
8" 0010-10079 Indexer 0010-09750R RF Match.
AMAT/APPLIED MATERIALS WxZ Chamber CVD Centura for P5000是一種獨特的化學氣相沈積(CVD)反應器,設計用於集成電路(IC)制造。這種最先進的設備擁有多個站(最多兩個站)的化學反應加熱設備,可產生異常均勻的薄膜沈積,從而能夠精確控制層厚並提高吞吐量。反應室設有靜電耦合膜沈積速率高、方向均勻性較高的WxZ室。它還改善了整個腔室的熱傳導,消除了熱點,並允許均勻的熱梯度沈積。這種設備通過一個或兩個傳輸機制提供令人印象深刻的基板裝載能力。每個機構提供最多五個定制的加載位置,這些位置可以優化以達到最優的前體均勻性。靜電耦合CVD進一步提高了載荷能力,實現了保形CVD、擴散控制和表面控制系統等多種薄膜生長技術。該系統還允許創建多個膜層。該P5000提供了一個高分辨率的視覺單元,在對準基板時提高準確性。雙基板清潔臂提供了額外的清潔層,提高了生產過程中的可靠性和精度。一個內置的區域監測器分析沈積的組成和均勻性。控制器的直接數據采集功能可以方便地記錄和跟蹤數據。此外,P5000利用先進的溫度控制機,提供無與倫比的熱均勻性。該軟件最多配備四個氣流配置文件,可針對所需的應用程序進行定制。防漏室CVD的使用進一步提高了工藝可靠性。利用低壓動態過程進一步消除了對真空泵的需求,從而節省了下遊過程真空成本的時間和金錢。總體而言,AMAT WxZ Chamber CVD Centura for P5000為用戶提供了一個通用可靠的IC制造設備。其最先進的設計、多基板清洗階段和溫度控制工具,結合其先進的軟件,使該反應堆成為CVD技術的行業領導者。
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