二手 NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel #171833 待售
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已售出
ID: 171833
晶圓大小: 8"
優質的: 1999
CVD with shrink process chamber, 8", 1999 vintage.
NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel是一種化學氣相沈積(CVD)設備,設計用於沈積一系列半導體器件制造的功能層。它是專門為在單個基板暴露中多堆叠的介電、導電和屏障材料的大體積沈積而設計的。該系統基於一個低壓閉環反應堆腔室,配有兩個獨立調節的氣源,向基板輸送反應性流動。獨特的兩區反應堆設計允許兩種或兩種以上材料類型或組合的順序沈積;該裝置在不同的沈積區自動調整壓力分布、溫度、氣流、通量和劑量等參數。CONCEPT 2 Sequel可以處理各種各樣的基板,包括玻璃、矽、有機和無機材料,以及非標準材料,在創造綜合性能增強的復雜多層結構時允許前所未有的靈活性。該機器包含一個專有的介電沈積模塊,旨在促進先進的介電層在單個序列中的高溫「快火」沈積,從而加快吞吐時間。NOVELLUS CONCEPT 2 Sequel提供高級圖層配置文件,以實現卓越的尺寸控制和性能改進。該工具還具有變頻、可變功率和可變脈寬控制等其他功能,可用於沈積剖面的深度定制。循環時間優化引擎通過跟蹤沈積周期並相應地生成快速反應參數,幫助確保資產自動化和以最短的過程時間提高吞吐量。CONCEPT 2 Sequel是生產多種微設備、顯示器和其他創新半導體器件的強大可靠設備。這種可靠的模型具有廣泛的多用途功能,是任何生產環境的理想選擇,在任何生產環境中,極致的精度和過程控制都是最重要的。
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