二手 NRC / VARIAN 3117 #9081339 待售
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單擊可縮放
ID: 9081339
E-beam evaporator
High vacuum station
Includes:
SS Chamber: 18" dia x 20.5" tall
With electro mechanical hoist on 20" SS baseplate
VARIAN M6 Diffusion pump
Rated: 1500 l/s air
NRC / VARIAN 316 LN2 Baffle electro pneumatic valves with sequencer
Mechanical roughing pump: 17 CFM
Does not include helium mass spectrometer.
NRC/VARIAN 3117是專門為真空工業設計的陶瓷對金屬/金屬對陶瓷濺射設備。這種濺射系統是為磁帶和磁盤行業、光電器件生產、集成電路(IC)行業而構建的。它用途廣泛,可用於多種應用,包括塗層塑料基板、玻璃上的鉻、金對金和鐵氧體濺射以及離子植入。NRC 3117濺射單元由真空室、固定夾具、風冷陰極磁體和電源組成。真空室由隔絕隔膜構成,由不銹鋼和鋁等低導電材料構成。這種流線型設計意在防止滲出裝在室內的介質,並防止工作材料和設備受到汙染。VARIAN 3117濺射機使用兩個平行板電極系統和一個大功率直流(DC)磁控管電源提供高效、均勻的離子轟擊。直流磁控管等離子體源用來製造高密度的氙離子,然後將其指向目標底物。電源連接到可變功率變壓器,該變壓器用於調整功率以在表面上形成均勻的材料層。3117還包含一個冷卻工具來管理腔室的溫度,這有助於濺射材料的質量,創造一個更受控制的環境。NRC/VARIAN 3117為了在濺射室中保持和移動目標基板,配備了可移動的標本架或面板。這使得在腔室內外容易裝卸樣品。持有人還配備了氣體處理資產,這對濺射電離過程很重要。NRC 3117可以濺射鋁合金、銅、金、鎳鉻合金等多種不同類型的材料。這種濺射模型特別適合於實現超均勻性的超薄層和獨特的圖案。這種濺射設備被廣泛用於制造半導體產品的低成本原型和子組件,以及用於一般制造操作。此外,這種濺射系統可用於多種應用,如電介質層的沈積和光學元件。VARIAN 3117濺射裝置是市場上最可靠、用途最廣泛的系統之一,被廣泛用於提供可靠和可重現的結果。這臺機器提供無與倫比的速度、精度和控制,生產高質量,可靠的零件.
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